前沿的實驗室科學研究儀器和設備，不僅有助于加快科學研究的進程，也為未來的學術成果和企業的技術創新奠定了基礎。一起來看看 2024 年必投資的 6 大科學研究儀器，你錯過了哪些？
1.掃描電鏡 — 優秀的表征工具
Phenom 飛納臺式掃描電鏡
在當今科學研究和工業應用中，掃描電子顯微鏡與能譜儀已成為材料實驗室的表征工具。荷蘭飛納臺式掃描電鏡（Phenom）以其前沿技術和用戶友好的設計，被 1500+ 用戶認可，成為科研和工業研發高效、精確材料微觀表征與分析的首（shou）選。
2024 年，為您的材料實驗室增購飛納臺式掃描電鏡，揭開材料微觀世界的奧秘，加速科學發現和技術創新的步伐。
為什么選擇飛納臺式掃描電鏡？
1）小巧的體積
相比于傳統的大型掃描電鏡，荷蘭飛納臺式掃描電鏡的顯著特點是其緊湊的設計。這意味著它不僅占用空間小，而且安裝和部署的靈活性大大增加，即便是在空間有限的實驗室環境中也能輕松安置。
2）高效的性能
盡管體積小巧，荷蘭飛納臺式掃描電鏡卻能提供與大型掃描電鏡相媲美的高分辨率成像能力（優于1.5nm）。此外，其快速成像（30 秒內完成）和快速抽真空（15 秒完成）的特性，使得樣品的觀察和分析過程更加高效。
3）電鏡能譜一體機
能譜軟硬件全集成，使得能譜分析工作更為簡單、直接、高效。
4）易用的操作
飛納電鏡通過自動化，大幅簡化了操作流程，即便是非專業人員也能在短時間內掌握使用方法，大幅降低了用戶的學習成本和操作難度。
荷蘭飛納臺式掃描電鏡——清華大學、北京大學、復旦大學、上海交通大學、中科院等頂尖高校科研單位，以及寧德時代、比亞迪、巴斯夫、微軟、羅氏、默克等企業的共同選擇。
2.臺式顯微 CT——人無我有，搶占先機
NEOSCAN 臺式顯微 CT
NEOSCAN 臺式顯微 CT，通過精細的機械系統及創新的圖像重建算法，在臺式機的體積下實現了 2μm 的高空間分辨率。臺式顯微 CT 不僅實現了對樣品的無損檢測，更以其作為一種相對較新的表征手段在科研和工業界中獨樹一幟。這種新穎性本身就是其顯著的優勢之一，為那些尋求突破傳統研究方法限制的科學家和工程師們開辟了新的視野。
2024 年，為您的材料實驗室增購 NEOSCAN 臺式顯微 CT，意味著獲得了"人無我有"的技術優勢，助您在科學研究和技術創新的競賽中占據先機，迎來更多的創新和突破。
新穎性帶來的優勢
1）填補技術空白
在許多研究領域，傳統的表征手段或許難以提供足夠的信息或可能對樣品造成破壞。NEOSCAN 臺式顯微 CT 的無損和三維成像能力，提供了一種全新的解決方案，使得研究人員能夠探索材料的內部世界，提升研究成果的影響力和可見度。
2）推動創新研究
作為一種新興的表征技術，NEOSCAN 臺式顯微 CT 為科學研究和產品開發提供了新的可能性。它鼓勵科學家和工程師跳出傳統思維的框架，探索和實驗新的研究方法與應用途徑。
3）多維度參數分析
通過對 CT 圖像數據的深入分析，研究人員可以從中提取出樣品的多種物理和幾何參數，如體積、表面積、孔隙率、纖維取向等。這種多維度的定量信息對于理解材料的性能和行為具有重要意義。
4）應用領域的拓展
隨著科研和工業界對 NEOSCAN 臺式顯微 CT 技術認識的不斷深入，其應用領域正迅速擴展。從對高性能材料的內部結構分析，到在醫學領域對骨組織的細致觀察，再到考古學中珍貴文物的無損檢測，NEOSCAN 臺式顯微 CT 都展現出了其獨到的價值和潛力。
NEOSCAN 臺式顯微 CT 作為一種比較新的表征手段，不僅因其無損檢測能力而受到重視，更因其新穎性和應用價值而成為科研和工業界的寶貴資產。
3. 原位實驗樣品桿——開啟原位納米/原子級分析新時代
DENSsolutions TEM 原位樣品桿
傳統透射電子顯微鏡 (TEM) 主要用于成像材料結構，近年來球差等先進技術使其達到原子分辨率。然而，它們無法模擬真實環境（加熱、氣體、液體等），限制了應用價值。DENSsolutions 的原位透射電鏡技術突破了這一瓶頸！利用微機電系統 (MEMS) 技術，在 TEM 內實時模擬真實應用環境，將電鏡從靜態成像工具變身為多功能實驗室。
DENSsolutions，助力您引（yin）領納米科技前沿！
In-situ TEM原位透射電鏡優勢
1）真實環境
模擬冷凍、加熱、加電、氣體、液體等，觀察材料在真實條件下的行為。
2）多功能分析
不僅成像，還能測量性能、評估表現、優化工藝。
3）一站式平臺
集成所有研發階段，解鎖研究能力。
應用領域:
電池研究：觀察電池材料在工作條件下的變化，開發新型電池。
催化研究：實時監測催化劑活性位，設計高效催化劑。
材料科學：探索材料在真實環境下的微觀行為，研發新型材料。
4.SEM/TEM 樣品制備——掃描電鏡/透射電鏡制樣必（bi）備
Technoorg Linda 離子束技術
Technoorg Linda 提供專業的樣品制備解決方案。 產品通過超高能氬離子槍和低能氬離子槍，對樣品進行無損研磨，精細加工以及最終精修。具體包括SEM樣品制備（SEMPrep2），FIB樣品精修（Gentle Mill），TEM 樣品制備（Unimill）等產品。這些產品與所有品牌的電子顯微鏡兼容，涵蓋從機械樣品制備到離子研磨和最終精修的整個減薄過程。適用于材料科學、生物研究、地質學、半導體和光學等多個領域。
SEMPrep2 氬離子研磨儀 —— 掃描電鏡樣品的高質量表面精密處理設備
Gentle Mill 離子精修儀 —— 用于制備高質量 TEM/FIB 樣品的離子束工作站
Unimill 離子減薄儀 —— 用于 TEM/XTEM 樣品制備的全自動離子束減薄系統
5.原子層沉積包覆——PALD
Forge Nano 粉末原子層沉積包覆
Forge Nano 粉末包覆技術是一種基于原子層沉積（ALD）的表面涂層技術。它可在納米尺度上實現對粉末顆粒的均勻和精確涂層包覆，提高材料的性能和穩定性。Forge Nano 的粉末包覆技術在催化劑、電池材料、陶瓷材料等領域具有廣泛的應用，為這些領域的研究和工業生產提供了先進的涂層解決方案。
6.納米顆粒制備——納米氣溶膠沉積系統
VSParticle 納米顆粒制備&印刷沉積系統
VSParticle 火花燒蝕納米氣溶膠沉積系統可用于 MEMS 制造氣體傳感器氣敏涂層，電催化劑涂層的制備，是為數不多可以在常壓狀態下制備 20nm 以下納米粒子的氣相沉積方法。目前已在浙江大學，東南大學，北京工業大學，中科院物理所，中南大學，廣東工業大學等學術機構以及企業裝機。火花燒蝕沉積技術已被眾多學者證明，在 Nature，Matter, Advanced Functional Materials 等高水平期刊發表相關文章，是新型納米制造的利器。
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